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Tantalum Pentoxide ( Ta2O5) films were prepared by pulsed DC reactive magnetron sputtering method.
采用直流脉冲反应磁控溅射方法制备了高介电常数五氧化二钽(Ta2O5)薄膜。
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离子色谱法测定五氧化二铌和五氧化二钽中痕量氟氯和硫酸根离子的前处理方法
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XPS Analysis of Tantalum Pentoxide Thin Films Formed by Using Excimer UV Lamp
Excimer紫外灯辐照法钽氧化物膜XPS分析
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Determination of 13 Trace Impurities in High-Purity Tantalum Pentoxide by ICP-AES
ICP-AES测定高纯氧化钽中13种杂质元素
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本文提出了基体匹配校准曲线,ICP-AES法直接测定高纯氧化钽中13种杂质元素的分析方法,并考察了光谱干扰以及基体效应的影响,确定了仪器最佳工作条件。
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利用C和CO的还原性,能有效地将Cr6+还原成Cr3+或者金属Cr.五氧化二钽碳还原过程的机理研究
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